缺陷檢測(cè)與分析

設(shè)備：光學(xué)缺陷分析設(shè)備Candela CS920/ SICA 88

廠(chǎng)商：美國(guó) KLA-Tencor Corporation/日本 Lasertec Corporation

用途：SiC/GaN/Si基板和外延（epi）晶圓表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)，可同時(shí)測(cè)量散射強(qiáng)度、形狀變化、表面反射率和相位轉(zhuǎn)移，為特征缺陷（DOI）進(jìn)行自動(dòng)偵測(cè)與分類(lèi)。

技術(shù)指標(biāo)：

l 檢測(cè)缺陷尺寸>0.1μm

l 最大樣品尺寸：6inch Wafer

l 超過(guò)30種DOI的缺陷分類(lèi)

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